ASML的EUV光刻机卖到10亿一台,依然供不应求,该公司日前上调了未来10年的营收预期。
ASML阿斯麦周三上调了财务预期,并表示由于市场对其产品的需求旺盛,该公司到2030年的年收入增幅将达到11%左右。
该公司执行长Peter Wennink在向投资者介绍时表示:”我们对产品需求数量感到非常满意,这些需求不包括因美国、中国和欧洲对技术主权的追求而可能产生的额外芯片需求。”
在一份市场更新报告中,阿斯麦估计,到2025年,公司收入将达到240亿至300亿欧元(280亿至350亿美元),毛利率将高达55%。
光刻机为什么那么贵
说一下个人片面的认知。
私以为前代的光刻机光学系统的难度,和机械系统的技术难度都很高,例如物镜,实际上中国很早就有设计加工物镜的能力,但缺乏合规批产的能力,导致实际从业者太少,研发能力实际很弱。套刻等工艺对机械结构的重复精度和对准精度要求也很苛刻。
目前的euv光刻机,光源有难度,但应该不是最困难的,由于要规避传统意义上光学玻璃对euv的强吸收,大多只能用介质薄膜反射实现之前的物镜光学系统的功能,从而在光学系统设计,反射膜加工和图形生成上难度会前所未有的大。
另一方面,随着工艺尺寸的减小,机械结构精度和对准精度自然也要求更高。这是一类复杂的系统,精密,研发和后续成本高,且收益巨大,价格自然也高。
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